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半導体プロセスコントロール

Using diode lasers for semiconductor inspection and process control

半導体業界またそのテクノロジーは洗練されたプロセスコントロールおよび品質分析ツールに深く依存しています。最適化された検査手法は対象サンプルが禁止物質と接触しない、環境ガスまたは真空環境が汚染されておらず、取り扱いが非常にフレキシブルである非触覚的手段によって実現される必要があります。これらの手法の中でレーザをベースに用いる技術は、幅広い応用性、優れた空間分解能、究極的な測定感度など多くの利点が評価されています。そして多くの種類が存在する全てのレーザ発振器の中において最適化された波長、偏光特性、および優れたビーム品質を備えたコンパクトな半導体レーザは長寿命とクリーンルームの互換性のために、多くの先進的な光学検査技術にとって第一の選択肢となります。

 

 

トプティカ社レーザの半導体分野における適用範囲:

  • 薄膜分析は偏光された光をエリプソメトリに用いることによって達成されます。
  • 自由度の高いマイクロリソグラフィーには青色およびUV波長領域のユニークで操作しやすいシングルモード半導体レーザが適用可能です。
  • 酸素または水素のようなガスは特徴的な分子吸収周波数にわたって高速に波長スキャンが可能な近赤外チューナブル半導体レーザを使用することによって密閉された環境において遠隔で検出することが可能です。
  • パーティクル(コンタミ)粒子は、輝度の大きい半導体レーザビームにより生成される散乱光を分析することにより検出が可能です。
  • ステッパの露光マスクおよびスキャンステージは単一周波数半導体レーザを利用した光干渉計を用いて究極の精度で位置合わせすることができます。
  • 単一周波数で高いコヒーレンス(可干渉性)を兼ね備えた紫外域CW半導体レーザを使用することにより高価な露光用光学素子を高分解能に検査することが可能です。